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等離子去膠機(jī)在半導(dǎo)體先進(jìn)封裝的應(yīng)用

隨著摩爾定律逼近物理極限,先進(jìn)封裝技術(shù)(2.5D/3D IC、扇出型封裝、Chiplet集成等)成為延續(xù)半導(dǎo)體性能提升的關(guān)鍵路徑。

先進(jìn)封裝技術(shù) 

其中,光刻膠的徹底、無損去除直接決定了封裝良率與長期可靠性。

 

一、等離子干法去膠

傳統(tǒng)濕法去膠在面對復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)、敏感材料和嚴(yán)苛尺度時局限性凸顯,而等離子干法去膠技術(shù)利用高能等離子體去除光刻膠,去膠徹底且速度快,無需引入化學(xué)物質(zhì),避免造成材料損傷,已逐漸成為先進(jìn)封裝工藝鏈中不可替代的核心制程。

等離子去膠機(jī) 

 

二、晟鼎等離子去膠機(jī)

核心優(yōu)勢

?采用遠(yuǎn)程等離子體,可避免造成晶圓損傷

?高密度等離子體,去膠速率快

?仿真電圈設(shè)計,放電穩(wěn)定,等離子電離效率高

?自研軟件,具有直觀流程動畫和完善的數(shù)據(jù)記錄

 

等離子去膠機(jī)產(chǎn)品系列

等離子去膠機(jī) 

三、晟鼎等離子去膠機(jī)光刻膠處理效果

當(dāng)圖形化工藝完成后,表面剩余光刻膠需要通過去膠工藝進(jìn)行完全清除。光刻膠殘留會破壞電路圖案的精度和線寬,導(dǎo)致芯片性能下降甚至失效。

①硅晶圓光刻膠去除

硅晶圓光刻膠去除 

②藍(lán)寶石光刻膠去除

藍(lán)寶石光刻膠去除 

四、等離子去膠機(jī)應(yīng)用工藝

等離子去膠機(jī)應(yīng)用的工藝 

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