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等離子干法去膠在先進(jìn)封裝中的核心工藝應(yīng)用

01重布線層(RDL)

在扇出型封裝(FOWLP)或硅/玻璃/有機中介層上制作高密度RDL線路后,線路側(cè)壁與底部的光刻膠殘留易引發(fā)短路或高阻故障。

 

RDL線路電鍍/金屬化形成后,可通過等離子去除通孔內(nèi)的殘留物質(zhì),避免殘留膠體導(dǎo)致金屬線路短路或接觸阻抗異常,提高后續(xù)電鍍質(zhì)量。

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*RDL重布線層制作工藝

02玻璃通孔TGV

玻璃通孔(TGV)是2.5D/3D堆疊的核心垂直互聯(lián)通道,通孔內(nèi)光刻膠的去除面臨高深寬比挑戰(zhàn)。

 

等離子可有效去除通孔內(nèi)的光刻膠殘留,保障可靠性,避免傳統(tǒng)濕法去膠可能導(dǎo)致的微裂紋風(fēng)險。

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*TGV工藝示意圖,圖源網(wǎng)絡(luò),侵刪

03倒裝(Filp Chip)

在倒裝(FC)工藝中,等離子干法去膠能夠清除UBM表面及間隙的殘余光刻膠,避免引發(fā)焊點界面失效(虛焊/空洞)。

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*倒裝(FC)工藝流程

 

晟鼎等離子去膠機廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、MEMS器件、光電子元件、先進(jìn)封裝等高科技領(lǐng)域的表面去膠、活化及表面處理等關(guān)鍵工藝。

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